继北京、杭州、广州、深圳、武汉、福州、厦门、成都、大连、济南、南京等城市之后， 11月24日下午，由中国文字字体设计与研究中心主办、湖南师范大学美术学院、中央美术学院与方正电子携手承办，湖南省设计家协会、设计长沙大力支持的【方正奖】中文字体设计大赛作品展正式走进长沙岳麓学区，包括第七届“方正奖”中文字体设计大赛一、二、三等奖获奖作品在内的历届大赛获奖作品、方正字库经典字体、珍贵手稿以及曾在“汉字二十四时”活动上亮相过的6位方正资深字体设计师的设计作品等200余件展品在此次展览上亮相。

展览开幕式上，方正字库正式授权湖南师范大学美术学院加入“设计院校正版字体支持计划”，向其免费赠送了方正字库已发布的全部正版字库软件供教学使用。这也是全国第8家受益于方正电子“设计院校正版字体支持计划”的院校，之前加入该计划的院校有中央美术学院、清华大学美术学院、北京服装学院、北京印刷学院、北京理工大学设计与艺术学院、北京大学艺术学院、南京艺术学院等7所院校。同时，方正电子与湖南师范大学、湖南大学、中央美术学院、广州美术学院共同成立“中文字体创新设计联合实验室”，业界、学界携手共推字体行业的发展。

展览开幕 

展览现场

      中文字体创新设计联合实验室揭牌

在随后举办的“字得其乐——字体控分享沙龙”上，方正电子字库业务部开发部副部长仇寅分享了方正悠黑系列字体的设计思路与开发经验。方正悠黑系列是方正电子推出的第二代屏显字体，广泛吸收了来自设计界、网络媒体界、屏幕用户群的意见和建议，在字体设计过程中采用了三大创新思路：遵循折中路线，汲取书写精神，应对屏显技术而设计。方正悠黑系列的推出丰富了人们在屏幕阅读时代的字体选择，给人们以更好的屏幕阅读体验和视觉享受，在“屏幕阅读”快速发展的今天，其推出有着划时代的意义。

此外，方正电子字库业务部高级字体设计师汪文、湖南师范大学美术学院副院长李少波、湖南师范大学美术学院副院长季铁等几位专家，也相继在论坛上与“字体控”们分享了他们对于字体设计与研究的心得体会。在论坛的互动环节中，主讲专家与设计师之间的精彩问答，以及针对具体设计细节的讨论令参与者们深感获益匪浅。

方正电子相关负责人表示，“字景”【方正奖】中文字体设计大赛作品展暨

展览开幕字得其乐『字体控』分享沙龙以促进国内外设计师、设计院校老师、字体设计爱好者之间的交流为目标，致力于为海内外的中文字体设计者和研究者提供一个相互切磋和展示成果的平台。继长沙站之后，还将陆续走进国内其他知名院校，同时，将邀请更多设计院校加入方正字库的正版字体支持计划，在普及字库知识产权保护的同时，助力字库行业的人才培养，进而推动整体行业的发展。